Характеристики и свойства на покритието на безелектрическо Ni-P покритие

Досега химическото никелиране е един от най-бързо развиващите се процеси за повърхностна обработка в чужбина. Бързото приложение и развитие на химическото никелиране се определят от неговите превъзходни характеристики.
Характеристики на химически никелов слой:
(1) Силна способност за покритие
Равномерната дебелина и добрата диспергируемост са основните характеристики на всички химически покрития. Процесът на безелектрическо никелиране избягва неравномерната дебелина на слоя никелиране поради неравномерното разпределение на плътността на тока. Дебелината на никелирания слой варира значително в цялата част, особено за части със сложни форми. В ъглите на частите и близо до анода покритието е по-дебело; На вътрешната повърхност или далеч от анода, покритието е много тънко и дори не може да се получи. Използването на химическо покритие може ефективно да компенсира този недостатък при галванопластиката. По време на химическо покритие, докато повърхността на частта влиза в контакт с разтвора за покритие, компонентите, консумирани в разтвора за покритие, се допълват своевременно. Дебелината на покритието на всяка част е основно еднаква, дори за жлебове, пролуки и глухи отвори, като разликата в дебелината обикновено не надвишава ± 10 процента.
(2) Ниска порьозност
В сравнение с галванизираните никелови слоеве със същата дебелина, порьозността на неелектролитния никелов слой е по-малка и покритието е плътно, което е много важно за устойчиви на корозия покрития. Никеловият слой принадлежи към катодната защита и играе екранираща роля върху субстрата. Наличието на пори ще ускори корозията на основата. Компактността и химическата стабилност на безелектрическото никелово покритие са неговите предимства при защитата на материала.
(3) Възможност за получаване на аморфни покрития
След използването на закаляване за получаване на аморфни материали, те са показали много предимства във физичните, химичните и механичните свойства в сравнение с кристалните твърди вещества поради тяхната уникална структура.
Металът и неметалът са лесни за получаване на аморфна структура при условия на охлаждане, например атомите Ni и P атомите се утаяват едновременно в процеса на безелектродно покритие. Тъй като силата на свързване на един и същ атом е по-малка от тази на различни атоми, заедно с ограниченията на енергийните условия, е лесно да се получат аморфни покрития.
(4) Възможност за получаване на покрития от композитни материали
Концепцията за комбиниране на два материала в композитни материали доведе до разработването на композитни материали с галванично покритие и съответно са разработени композитни материали с химическо покритие.
Понастоящем са разработени композитни покрития като Ni-P-SiC и Ni-P диамант. По принцип всички метали, които могат да бъдат химически покрити, могат да получат своите композитни материали, така че е възможно да се използва методът на химическо покритие за получаване на композитни покрития от материали като никел, мед, злато, кобалт и калай, и много материали могат да бъдат използвани като композитни частици за химическо покритие на композитни материали. Тази разнообразна комбинация предоставя нови средства и идеи за разработване на повърхностни покрития с различни функции.
(5) Добра адхезия
По време на галванично покритие, водородният газ често се придържа към повърхността на катода под формата на мехурчета след утаяване, образувайки много пори между субстрата и покритието или вътре в покритието; Следователно, адхезията на галваничния слой е лоша и лесно се отлепва. Когато безелектрическото никелово покритие е в състояние на покритие, неговата сила на свързване със стомана, алуминий, мед и техните сплави е по-добра, 300~400MPa, което надвишава якостта на срязване на основния материал. След термична обработка може да се образува дълбочина от 2-7.5 на повърхността на съединението μ. Дифузионният слой от m прави силата на свързване по-добра. Така че силата на свързване на слоя с химическо никелиране е много по-добра от тази на слоя с галванично покритие от хром.
(6) Ниско вътрешно напрежение
Вътрешното напрежение на общия никелов слой за галванично покритие е 105 ~ 245 MPa, докато вътрешното напрежение на слоя никел за химическо покритие е 15 ~ 60 MPa. Следователно, вътрешното напрежение на слоя с химическо никелиране е много по-ниско от това на слоя с галванично покритие на никел. Галваничният никелов слой е покритие с високо напрежение и покритието е склонно към пукнатини, причинени от напрежение, което води до бракуване на компоненти.