Вакуумно хромиране DLC с йонен лъч

Вакуумно хромиране DLC с йонен лъч

DLC с йонен лъч: Въглеродният газ се йонизира в плазма в източника на йони и под комбинираното действие на електромагнитното поле източникът на йони освобождава въглеродни йони. Енергията на йонния лъч се контролира чрез регулиране на напрежението, приложено към плазмата. Лъч от въглеводородни йони се насочва към субстрата и скоростта на отлагане е пропорционална на плътността на йонния ток. Източникът на йонен лъч на покритие със звездна дъга приема високо напрежение, така че йонната енергия е по-голяма, което прави филма и субстрата добра връзка; йонният ток е по-голям, което прави скоростта на отлагане на DLC филм по-бърза. Основните предимства на технологията с йонен лъч са отлагането на ултратънки и многослойни структури, точността на управление на процеса от няколко ангстрьома и минимизирането на дефектите, причинени от замърсяване с частици по време на процеса.

PVD технология на звездообразно покритие при вакуумно хромиране

Подобрена магнетронна катодна дъга: Технологията с катодна дъга е да йонизира целевия материал в йонно състояние чрез ниско напрежение и висок ток при вакуумни условия, като по този начин завършва отлагането на тънкослойни материали. Подобрената магнетронна катодна дъга използва комбинираното действие на електромагнитното поле за ефективен контрол на дъгата върху повърхността на целевия материал, така че степента на йонизация на материала да е по-висока и производителността на филма е по-добра.

Филтрираща катодна дъга: Филтриращата катодна дъга (FCA) е оборудвана с ефективна електромагнитна система за филтриране, която може да филтрира макроскопичните частици и йонни клъстери в плазмата, генерирана от източника на йони. Степента на йонизация на отложените частици след магнитна филтрация е 100 процента. В допълнение, големите частици могат да бъдат филтрирани, така че подготвеният филм е много плътен, плосък и гладък, има добра устойчивост на корозия и има силна свързваща сила с тялото.

Магнетронно разпрашване: Във вакуумна среда, чрез комбинираното действие на напрежение и магнитно поле, мишената се бомбардира с йонизирани йони на инертен газ, което води до изхвърляне на мишената под формата на йони, атоми или молекули и отлагане върху субстрата под формата на тънък филм. В зависимост от използвания йонизационен източник на енергия, както проводими, така и непроводими материали могат да бъдат разпръснати като мишени.

www.superbheater.com