Анализ на отлагането на прах при галванопластика на електрически нагревателни тръби

Анализ на отлагането на прах при галванопластика на електрически нагревателни тръби

Стоманените части ще образуват дебел слой оксидни люспи при условия на висока температура като валцуване, коване, заваряване и термична обработка. Изключително трудно е да се отстрани ръждата, като се използват общи методи за киселинно почистване и има спешна нужда да се подобри ефективността на киселинното почистване за премахване на дебел слой оксидна скала. Chongqing Shanchuan Precision Welded Pipe Co., Ltd. е военно предприятие, специализирано в производството на стоманени заварени тръби. Дебела оксидна обвивка се генерира при производството на заварени тръби и се използва традиционно нагряване със сярна киселина и декапиране, което води до лоша стабилност на разтвора и кратък експлоатационен живот. След 2-3 дни на използване на новосъздадения разтвор за ецване, времето за ецване може да достигне над Zh и да причини корозия на някои неблагородни метали. Честите актуализации на резервоарите за ецване водят до изхвърляне на голямо количество отпадъчна течност, причинявайки сериозно замърсяване на околната среда и значително увеличение на разходите за третиране. Ние сме възложени от предприятието да проведем проучване на процеса на ецване. Работна крива

Работните криви, установени за пробите от капки от Sn, Ni и Fe в разтвора за галванопластика, представени в таблица 1, са показани на фигури 1-3. Горният ляв ъгъл на фигурата представлява константата на работната крива, а долният десен ъгъл представлява точността. Както показват резултатите, добри работни криви са получени за всички елементи.

Горните работни криви бяха получени чрез твърдо копиране на компютъра за обработка на данни, прикрепен към рентгеновия флуоресцентен спектрометър на нашата компания.

Анализ на 2 галванични прахове

Работните криви на количеството адхезия на Ni в покритието Zn Ni галванично върху стоманената плоча и количеството адхезия на Cr, обработено с хромат върху стоманената плоча, са показани на фигури 4 и 5. В примера за анализ на адхезия на Ni в Zn- Ni покритие, дебелината на филма е коригирана. За да се решат проблемите с трудното почистване на дебел слой оксидна кожа в производството и изпускането на киселинен почистващ разтвор, беше проучен процесът на киселинно почистване. Синергичният ефект на множество добавки се използва за контролиране на Fez, генериран по време на ецване, постигайки целта за ускоряване на отстраняването на дебелия слой оксиден мащаб и намаляване на замърсяването на околната среда, отговаряйки на изискванията за качество на производството и подобрявайки ефективността на производството.

www.superbheater.com